窒化アルミAlNは、
絶縁性が高く、熱伝導率が高いため、
ヒートシンクとしての利用が広がっています。
また、プリント基板の基材としても、
同様の理由で利用が広がっています。
パワーデバイスやLEDなど単位面積当たりの、
発熱量が大きい材料については、
ますます窒化アルミのような放熱材料は重要となってきます。
窒化アルミAlN(セラミックス)は、
焼結法で作成されますが、
作成法により熱伝導率が大きく変化します。
近年では、
作成法の高度化により、
高い熱伝導率をもつAlNが開発されています。
高い熱伝導率を持たせるためには、
焼結状態の制御が重要ですが、
そのためには、
微細な熱伝導率の分布を評価する必要があります。
しかしながら、
従来の方法では微細な領域の熱伝導率分布の測定は
困難でした。
サーマルマイクロスコープTM3では、
最小3μmの分解能で熱伝導率の測定が可能です。
(熱浸透率からの換算値)
以下に測定値を示します。
窒化アルミ(AlN)セラミックス 282W/mK(平均値)
また、
測定箇所によっても大きく熱伝導率が変化することがわかり、
219~318W/mKの範囲となりました。
詳しくは、
Journal of the Ceramic Society of Japan 116[12] 1260-1264 2008
を参照ください。
当社のサーマルマイクロスコープTM3は、
薄膜の熱伝導率(100nm~)、
微小領域の熱浸透率(3μm~)の測定ができる装置です。
測定依頼は、
株式会社ベテル、下記メールアドレスまでご連絡ください。
k-hatori@bethel.co.jp
絶縁性が高く、熱伝導率が高いため、
ヒートシンクとしての利用が広がっています。
また、プリント基板の基材としても、
同様の理由で利用が広がっています。
パワーデバイスやLEDなど単位面積当たりの、
発熱量が大きい材料については、
ますます窒化アルミのような放熱材料は重要となってきます。
窒化アルミAlN(セラミックス)は、
焼結法で作成されますが、
作成法により熱伝導率が大きく変化します。
近年では、
作成法の高度化により、
高い熱伝導率をもつAlNが開発されています。
高い熱伝導率を持たせるためには、
焼結状態の制御が重要ですが、
そのためには、
微細な熱伝導率の分布を評価する必要があります。
しかしながら、
従来の方法では微細な領域の熱伝導率分布の測定は
困難でした。
サーマルマイクロスコープTM3では、
最小3μmの分解能で熱伝導率の測定が可能です。
(熱浸透率からの換算値)
以下に測定値を示します。
窒化アルミ(AlN)セラミックス 282W/mK(平均値)
また、
測定箇所によっても大きく熱伝導率が変化することがわかり、
219~318W/mKの範囲となりました。
詳しくは、
Journal of the Ceramic Society of Japan 116[12] 1260-1264 2008
を参照ください。
当社のサーマルマイクロスコープTM3は、
薄膜の熱伝導率(100nm~)、
微小領域の熱浸透率(3μm~)の測定ができる装置です。
測定依頼は、
株式会社ベテル、下記メールアドレスまでご連絡ください。
k-hatori@bethel.co.jp